1.磨抛机的用途及特点MP-2型金相试样研磨抛光机配备双盘,可以以两种不同的速度完成研磨或抛光。左盘(预磨盘)转速为450 rpm,右盘(抛光盘)转速为600 rpm。采用双盘和不同的研磨抛光材料,可实现粗磨、精磨、粗抛和精抛的工艺过程。该机操作简单,使用经济。是工厂、科研院所、大专院校实验室使用的理想制样仪器。2、主要规格:型号MP-2磨盘直径230毫米抛光盘直径200毫米磨盘转速450rpm(左) 600rpm(右)可订购电机YC7124 370瓦尺寸700×600×278毫米重量50公斤工作电压交流220V,50Hz