1.研磨抛光机的特点及应用

MP-2型金相试样研磨抛光机配有双盘，可以两种不同速度完成研磨或抛光。左盘（预磨盘）的转速为450转/分，右盘（抛光盘）的转速为600转/分。采用双盘和不同的磨抛光材料，可实现粗磨、精磨、粗抛光和精抛光的过程。该机操作简便，使用经济。是工厂、科研院所、高校实验室理想的标本制备仪器。

2.主要规格：

模型	MP-2
磨盘直径	230毫米
抛光盘直径	200毫米
磨盘转速	450 rpm（左）600 rpm（右）可订购
发动机	YC7124 370 W
尺寸	700 × 600 × 278毫米
重量	50公斤
工作电压	交流220伏，50赫兹